特許
J-GLOBAL ID：200903029915146710
微小構造物製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003349
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212477
出願日： 1993年01月12日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：
【要約】【目的】 高さ精度を向上させるとともに容易に大量生産し得る微小構造物製造方法を提供する。【構成】 基板8の上に第一の材料を第一層9として積層し、この第一層9の一部をエッチャントにより除去して所望の微小構造物14の形状に形成し、第一層9の上に該エッチャントによってはエッチングされない第二の材料による第二層10を積層し、この第二層10に穴11を形成し、この穴11から該エッチャントを浸透させることにより第一層9を除去して中空部12を形成し、この中空部12を型として電鋳或いは射出成形を施した後に第二層10を除去することにより、金属製或いはプラスチックス製の微小構造物14を形成する。
請求項（抜粋）：
基板の上に第一の材料を第一層として積層し、前記第一層の一部をエッチャントにより除去して所望の微小構造物の形状に形成し、前記第一層の上に前記エッチャントによってはエッチングされない第二の材料による第二層を積層し、この第二層に穴を形成し、この穴から前記エッチャントを浸透させることにより前記第一層を除去して中空部を形成し、この中空部を型として電鋳を施した後に前記第二層を除去するようにしたことを特徴とする微小構造物製造方法。
IPC (2件)：
C25D 1/00 381
, C23F 1/00
