特許
J-GLOBAL ID:200903029916352313

ポリッシング装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡邉 勇 ,  堀田 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-025817
公開番号(公開出願番号):特開2004-154936
出願日: 2004年02月02日
公開日(公表日): 2004年06月03日
要約:
【課題】 トップリング本体がターンテーブル上面の動き(傾動)に滑らかに且つ迅速に追従でき、且つトップリング駆動軸の回転トルクが確実にトップリング本体に伝達されるポリッシング装置及び方法を提供する。【解決手段】 ターンテーブル20とトップリング本体3とを有し、ターンテーブル20とトップリング本体3との間にポリッシング対象物6を介在させて所定の力で押圧し摺動させることによってポリッシング対象物6の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、トップリング本体3下面の面圧分布を調整する面圧調整手段37を設けた。【選択図】 図10
請求項(抜粋):
ターンテーブルとトップリング本体とを有し、前記ターンテーブルとトップリング本体との間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧し摺動させることによって該ポリッシング対象物の表面を研磨し平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、 前記トップリング本体下面の面圧分布を調整する面圧調整手段を設けたことを特徴とするポリッシング装置。
IPC (2件):
B24B37/00 ,  H01L21/304
FI (2件):
B24B37/00 B ,  H01L21/304 622K
Fターム (3件):
3C058AA12 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭56-124768

前のページに戻る