特許
J-GLOBAL ID：200903029924505994
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-226544
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326765
出願日： 1997年08月22日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 純水供給路を流通する純水の圧力変動に起因した処理液の濃度変動を抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 薬液導入弁9は入口側の薬液圧力と出口側の純水圧力との差圧に応じた流量の薬液を、純水供給路2の純水中に導入する。純水圧力変動帰還部60Aは、純水供給路2内の純水圧力の変動に追随して薬液圧力を変動させるように、薬液濃度帰還制御部40Aから与えられた薬液流量操作電圧Vd1を補正する。補正された薬液流量操作電圧Vd1’が電空変換器20を介して薬液圧力調節器19に与えられる。これにより、純水圧力の変動に追随して薬液圧力が調節され、薬液導入弁9の入口側と出口側との差圧が一定に維持される。
請求項（抜粋）：
純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の表面処理を行う基板処理装置であって、処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、前記基板処理部と純水供給源との間に接続される純水供給路と、薬液を貯留する密閉構造の薬液タンクと、前記薬液タンク内の薬液中に一端が導入された薬液供給路と、前記薬液タンク内の薬液を前記薬液供給路に送りだす薬液圧送手段と、入口側が前記薬液供給路の他端に、出口側が前記純水供給路に接続され、入口側の薬液圧力と、出口側の純水圧力との差圧に応じた流量の薬液を前記純水供給路内に導入する薬液導入弁と、処理液の濃度目標値に関連して設定される薬液流量操作量に基づいて、前記薬液供給路内の薬液圧力を調節する薬液圧力調節器と、前記純水供給路内の純水圧力現在値を求め、この純水圧力現在値が予め定められた純水圧力基準値よりも高くなったときは、薬液圧力を高くする方向に薬液流量操作量を補正して前記薬液圧力調節器に与え、純水圧力現在値が前記純水圧力基準値よりも低くなったときは、薬液圧力を低くする方向に薬液流量操作量を補正して前記薬液圧力調節器に与える純水圧力変動帰還手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
H01L 21/304 341 T
, H01L 21/304 341 S
