特許
J-GLOBAL ID:200903029928570898

真空遮断器用接点材料,その製造方法および真空遮断器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 波多野 久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-204847
公開番号(公開出願番号):特開平11-050177
出願日: 1997年07月30日
公開日(公表日): 1999年02月23日
要約:
【要約】【課題】耐電圧性等の他の遮断特性を損なうことなく、耐溶着性を向上させた真空遮断器用接点材料,その製造方法および真空遮断器を提供する。【解決手段】高導電成分としてのCuと耐弧成分としてのCrとから成る真空遮断機用接点材料13,13bにおいて、Cu結晶の平均粒径が20μm以下であることを特徴とする。また少なくとも90重量%のCu結晶の粒径範囲が1〜30μmであることが望ましい。
請求項(抜粋):
高導電成分としてのCuと耐弧成分としてのCrとから成る真空遮断器用接点材料において、Cu結晶の平均粒径が20μm以下であることを特徴とする真空遮断器用接点材料。
IPC (3件):
C22C 9/00 ,  C22C 1/04 ,  H01H 1/02
FI (3件):
C22C 9/00 ,  C22C 1/04 P ,  H01H 1/02 C
引用特許:
審査官引用 (1件)

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