ブラックマトリックス用レジスト組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-119625
公開番号（公開出願番号）：特開2004-325733
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】高感度で高解像性を有し、酸素阻害のないブラックマトリックス用レジスト組成物を提供すること。【解決手段】光重合性ポリマー(A)、光重合性モノマー(B)、光重合開始剤(C)、チオール化合物(D)、黒色顔料(E)、分散剤(F)、及び溶剤(G)を主成分とし、光重合性ポリマー(A)として、反応性官能基を有するポリマーに対して、該記反応性官能基と反応可能な官能基を有する多官能(メタ)アクリル化合物を反応させ、該化合物を結合させてなる光重合性ポリマー(X)を含有し、チオール化合物(D)として、チオール基に対してα位および/またはβ位の炭素で分岐した構造を少なくとも一つ有するチオール化合物を含有すること。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

光重合性ポリマー(A)、光重合性モノマー(B)、光重合開始剤(C)、チオール化合物(D)、黒色顔料(E)、分散剤(F)、及び溶剤(G)を主成分とするブラックマトリックス用レジスト組成物であって、光重合性ポリマー(A)が、反応性官能基を有するポリマーに対して、該反応性官能基と反応可能な官能基を有する多官能(メタ)アクリル化合物を反応させ、該化合物を結合させてなる光重合性ポリマー(X)を含有し、チオール化合物(D)が、チオール基に対してα位および/またはβ位の炭素で分岐した構造を少なくとも一つ有するチオール化合物を含有することを特徴とするブラックマトリックス用レジスト組成物。

IPC (3件)：

G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/038

FI (4件)：

G02B5/20 101 , G03F7/004 501 , G03F7/004 505 , G03F7/038 501

Fターム (24件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB13 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025BC51 , 2H025BC92 , 2H025BC93 , 2H025CA00 , 2H025CB41 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 2H025CC03 , 2H025CC12 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H048BA11 , 2H048BA45 , 2H048BA47 , 2H048BA48 , 2H048BB24 , 2H048BB42

引用特許：

審査官引用 (4件)

カラーフィルター用黒色光重合性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-057500 出願人：三菱化学株式会社
特表平4-504873
カラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物及びその組成物に用いる感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-364274 出願人：昭和電工株式会社

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