特許
J-GLOBAL ID：200903029932100650
異物検査装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-250871
公開番号（公開出願番号）：特開平5-087740
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：
【要約】【目的】 従来、高集積半導体製造の初期工程での不良の大部分はプロセス中の異物に起因しており、これらを解決するために、高速かつ高信頼性で異物を検査できる装置の開発が不可欠であるが、パターン付きの被検査物に対する異物検査装置は必ずしもこれらの要望を満たすものはなかった。本発明の3つの発明は、被検査物に形成されているパターンに影響されず高精度・高信頼性で異物の検出を行えることが可能な装置の基本構成及び処理方法を示す。【構成】 被検査物体12表面に異なる複数方向からのレーザ光13,14,15を照射し、それぞれの形成する光情報を撮像素子に取り込み、複数の得られた像を比較することにより被検査物体に形成されているパターンと付着している異物を区別し被検査物体の異物を検出することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被検査物体表面に異なる複数方向からの光を照射し、それぞれの形成する光情報を撮像素子に取り込み、複数の得られた像を比較し被検査物体に形成されているパターンと付着している異物を区別することにより被検査物体の異物を検出することを特徴とする異物検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G03F 1/08
, G06F 15/62 405
, H01L 21/66
