特許
J-GLOBAL ID:200903029939239336

金属含有多孔体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-118404
公開番号(公開出願番号):特開2003-313021
出願日: 2002年04月19日
公開日(公表日): 2003年11月06日
要約:
【要約】【課題】 高品質な金属含有多孔体の製造方法を提供する。【解決手段】 キトサンの金属錯体を製造する工程と、該キトサン金属錯体を炭化する工程と、該炭化工程で得られた炭化物を表面活性化する工程からなることを特徴とする金属含有多孔体の製造方法。
請求項(抜粋):
キトサンの金属錯体を炭化し、表面活性化してなる金属含有多孔体。
IPC (5件):
C01B 31/10 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/30 ,  B01J 37/00 ,  C04B 38/00 304
FI (5件):
C01B 31/10 ,  B01J 20/20 D ,  B01J 20/30 ,  B01J 37/00 A ,  C04B 38/00 304 Z
Fターム (22件):
4G019GA04 ,  4G066AA04B ,  4G066AB24A ,  4G066FA05 ,  4G066FA18 ,  4G066FA22 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08A ,  4G069BA08B ,  4G069BA29C ,  4G069BC66B ,  4G069BC68B ,  4G069DA05 ,  4G069FA01 ,  4G069FA08 ,  4G069FB34 ,  4G069FC02 ,  4G146AA06 ,  4G146BA34 ,  4G146BC03 ,  4G146BD01
引用特許:
審査官引用 (3件)
引用文献:
審査官引用 (1件)

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