特許
J-GLOBAL ID：200903029940239897
化学増幅型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
棚井 澄雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-274195
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084436
出願日： 2001年09月10日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：
【要約】【課題】 解像性に優れ、ラインエッジラフネスの低減、断面レジストパターンの矩形性に優れるレジスト組成物の提供。【解決手段】 (A)アクリル酸と特定のモノシクロヘキサン又はビシクロヘプタンカルボラクトン等とのエステルを繰り返し単位とし、分子量分布が1.01〜1.50の範囲である(メタ)アクリル酸共重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
次の成分(A)及び(B)(A)次式(I)【化1】(式中、R1は、水素原子、または置換基を有していてもよいC1〜C5アルキル基を表し、Aは、単結合、アルキレンオキシアルキレン基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アルキレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表し、Bは式(I-1)〜(I-4)【化2】(式中、Xは、酸素原子、硫黄原子または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、R2は、置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、またアルケニル基を表し、mは、0又は1〜5のいずれかの整数を表し、mが2以上の場合、R2はそれぞれ同一または相異なっていてもよく、また相互に結合して環を形成してもよい。)で表される置換基を表す。)で表される繰り返し単位を含み、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.01〜1.50の範囲である(メタ)アクリル酸共重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601
, C08F220/28
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F220/28
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA04R
, 4J100BC12P
, 4J100BC52Q
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100JA38
