特許

J-GLOBAL ID：200903029944780142

リン酸イオン含有水の処理装置

発明者： 藤本 恵一 ,  森泉 雅貴
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-345699
公開番号（公開出願番号）：特開2000-167560
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【課題】 不動態膜の発生を抑制し、リン酸除去性能を維持することができるリン酸イオン含有水の処理装置を提供する。【解決手段】 電解処理槽4内のリン酸イオンを含む被処理水中に少なくとも一部が浸漬するように対向して配置され、少なくとも一方が鉄および/またはアルミニウムを含む少なくとも一対の溶解性電極と、該電極に通電するための電源8と、前記処理槽4内を曝気する曝気手段9とからなる処理装置であって、前記処理槽4に流入する被処理水の上流部位および/または前記処理槽4内に少なくとも一対の不溶性電極13が浸漬されてなる。

請求項（抜粋）：

電解処理槽内のリン酸イオンを含む被処理水中に少なくとも一部が浸漬するように対向して配置され、少なくとも一方が鉄および/またはアルミニウムを含む少なくとも一対の溶解性電極と、該電極に通電するための電源と、前記処理槽内を曝気する曝気手段とを備えてなる処理装置であって、前記電解処理槽に流入する被処理水の上流部位および/または前記電解処理槽内に少なくとも一対の不溶性電極が浸漬されてなるリン酸イオン含有水の処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58 ,  C02F 3/30

FI (4件)：

C02F 1/46 102 ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 R ,  C02F 3/30 C

Fターム (40件)：

4D038AA05 ,  4D038AA08 ,  4D038AB46 ,  4D038AB47 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB10 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D038BB19 ,  4D040BB32 ,  4D040BB72 ,  4D061DA06 ,  4D061DA08 ,  4D061DB18 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061EA03 ,  4D061EA06 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061FA13 ,  4D061FA14 ,  4D061FA15 ,  4D062BA04 ,  4D062BA17 ,  4D062BA23 ,  4D062CA03 ,  4D062CA04 ,  4D062CA18 ,  4D062DA07 ,  4D062EA36 ,  4D062FA01 ,  4D062FA16 ,  4D062FA26