特許
J-GLOBAL ID：200903029962529805
軟磁性薄膜の製造方法および薄膜磁気ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-296945
公開番号（公開出願番号）：特開平8-161711
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：
【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドの高記録密度・大容量化に適した軟磁性薄膜を、比較的低い温度の熱処理によって得る。【構成】 Feを主成分とし、HfおよびNを含有するFe-Hf-N系薄膜を成膜後350°C未満の温度で熱処理する。金属Hf、Hfの窒化物微粒子および非晶質の内の少なくとも1種とともに混在するFeの微結晶の格子の膨脹を2.5%以下に抑えて、前記微結晶の平均粒径を2nm〜7nmならしめる。
請求項（抜粋）：
Feを主成分とし、HfおよびNを含有するFe-Hf-N系薄膜を成膜後350°C未満の温度で熱処理し、金属Hf、Hfの窒化物微粒子および非晶質の内の少なくとも1種とともに混在するFeの微結晶の格子の膨脹を2.5%以下に抑えて、前記微結晶の平均粒径を2nm〜7nmならしめることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/31
, H01F 10/14
, H01F 41/18
