レジスト材料

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-013140
公開番号（公開出願番号）：特開平8-202029
出願日： 1995年01月30日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】リソグラフィ工程における実用解像力を向上できるレジスト材料を提供する。【構成】化学増幅系レジストの中に垂直配向性化合物を添加し、露光後ベーク処理時の酸触媒反応、現像工程における現像液の浸透がレジスト深さ方向へ進行させることによりレジスト形状、寸法均一性および解像力を向上させる。

請求項（抜粋）：

少くとも樹脂及び感光性酸発生剤を含み、この感光性酸発生剤より生成した酸の触媒反応を利用してレジストの溶解性を変化させるポジ型化学増幅系のレジスト材料において、垂直配向性を有する直鎖状化合物を添加したことを特徴とするレジスト材料。

IPC (5件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

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