特許

J-GLOBAL ID：200903029978594780

蛍光分析用基板及び蛍光分析装置

発明者： 石川 満 ,  安田 哲二
出願人/特許権者： 浜松ホトニクス株式会社 ,  工業技術院長
代理人 (1件)： 220000415 工業技術院産業技術融合領域研究所長 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-278453
公開番号（公開出願番号）：特開2000-111477
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 試料からの蛍光の蛍光寿命が長く、S/N比が向上された蛍光分析を行うことが可能な蛍光分析用基板及び蛍光分析装置を提供する。【解決手段】 蛍光分析用基板1を、シリコン基板2と、シリコン基板2の試料が付着される面側に形成された厚さ10nm以上2.5μm以下のシリコン酸化膜3とから構成することによって、シリコン基板2による蛍光の消光作用を抑制し、かつシリコン酸化膜3から生じるノイズ光の影響を低減して、効率的に蛍光分析を行うことができる蛍光分析用基板を実現することができる。また、シリコン酸化膜3を有する蛍光領域と、シリコン基板2のみからなる消光領域とを有して蛍光分析用基板を構成することにより、特に単一分子の場合など微量な試料についての測定効率を大幅に高めることができる。

請求項（抜粋）：

蛍光分析を行う蛍光性分子を含む試料をシリコン基板の一方の面に付着させる蛍光分析用基板であって、前記シリコン基板の前記一方の面側に、厚さ10nm以上2.5μm以下のシリコン酸化膜が形成されたことを特徴とする蛍光分析用基板。

IPC (2件)：

G01N 21/64 ,  G01N 21/78

FI (2件)：

G01N 21/64 Z ,  G01N 21/78 C

Fターム (33件)：

2G043AA01 ,  2G043BA16 ,  2G043CA03 ,  2G043DA02 ,  2G043DA06 ,  2G043EA01 ,  2G043FA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB03 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043JA04 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043MA01 ,  2G043NA13 ,  2G054AA03 ,  2G054AB07 ,  2G054BA03 ,  2G054BB06 ,  2G054CD01 ,  2G054CD03 ,  2G054EA03 ,  2G054FA17 ,  2G054FB10 ,  2G054GA04 ,  2G054GA05 ,  2G054GB02 ,  2G054GE02 ,  2G054GE03 ,  2G054GE07 ,  2G054JA10