特許
J-GLOBAL ID:200903029979202478

チオフェン化合物及び導電性高分子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 高橋 敬四郎 (外1名) ,  高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-012766
公開番号(公開出願番号):特開平8-198871
出願日: 1995年01月30日
公開日(公表日): 1996年08月06日
要約:
【要約】【目的】 チオフェン化合物を用いて成膜性及びドーピング特性の優れた導電性高分子材料及びその製造技術を提供する【構成】 3〜6個のチオフェンが2位及び5位の位置で直鎖状に結合した2つのチオフェン誘導体が、両端以外のチオフェンの3位の位置で相互に結合して架橋されている。
請求項(抜粋):
一般式【化1】で表されるチオフェン化合物。
IPC (3件):
C07D333/04 ,  C08G 61/12 NLJ ,  H01B 1/12

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