特許
J-GLOBAL ID:200903029982437052

半導体レーザ装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-330066
公開番号(公開出願番号):特開平11-220220
出願日: 1996年12月26日
公開日(公表日): 1999年08月10日
要約:
【要約】【課題】 (1)低しきい値電流及び高スロープ効率特性を有し、且つ出射角が狭い半導体レーザ装置、(2)その製造方法、及び(3)上記のような半導体レーザ装置を光源として含む光通信システムを提供する。【解決手段】 半導体レーザ装置が、基板と、該基板上に形成された多層構造と、を備えた半導体レーザ装置であって、該多層構造は、少なくとも活性層を有する光導波領域と、該光導波領域の周囲を埋め込む埋め込み層と、を含み、該光導波領域は共振器長方向に対してストライプ状に形成されており、該光導波領域のストライプ幅は、前端面における幅W1と後端面における幅W2とがW1 請求項(抜粋):
基板と、該基板上に形成された多層構造と、を備えた半導体レーザ装置であって、該多層構造は、少なくとも活性層を有する光導波領域と、該光導波領域の周囲を埋め込む埋め込み層と、を含み、該光導波領域は共振器長方向に対してストライプ状に形成されており、該光導波領域のストライプ幅は、前端面における幅W1と後端面における幅W2とがW1 引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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