特許
J-GLOBAL ID：200903029988901680
マイクロ波プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-288316
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326453
出願日： 1992年10月27日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【構成】 反応器11内が主にプラズマを生成するプラズマ室20とウエハSが配置される反応室21とにメッシュ構造の仕切り板17で仕切られ、ウエハSを試料台26から浮かせて支持するための治具24が反応室21に配設されているマイクロ波プラズマ処理装置。【効果】 裏面のエッチング処理に関し、大口径のウエハにおける面内均一性を維持しながら、表面と裏面とを同時にプラズマ処理することができる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波発振器と、マイクロ波を伝送する導波管と、該導波管に接続された誘電体線路と、該誘電体線路に対向配置されたマイクロ波導入窓を有する反応器と、該反応器内を主にプラズマを生成するプラズマ室と試料台が載置される反応室とに仕切るためのメッシュ構造の仕切り板とを備えたマイクロ波プラズマ処理装置において、試料を試料台から浮かせて支持する治具を前記反応室内に備えていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/205
