特許

J-GLOBAL ID：200903029995605957

透明導電膜の製造方法及び透明導電膜

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-194567
公開番号（公開出願番号）：特開平11-242916
出願日： 1998年07月09日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：

【要約】【課題】 従来の蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法によった場合よりも安価な塗布法で低抵抗で膜強度が十分な透明導電膜を繰り返し塗布することなく製造できる方法を提供する。【解決手段】 透明支持体上に成膜された金属酸化物系の透明導電膜の製造方法において、次の2つの工程を含むことを特徴とする透明導電膜の製造方法。(a)透明支持体の一方の面に、金属酸化物系の透明導電性微粒子をバインダー及び溶剤もしくは水に分散させたものを塗布し、200°C以下で乾燥する工程(b)乾燥皮膜に紫外光線ないし赤外線の波長領域の電磁波を照射する工程

請求項（抜粋）：

透明支持体上に成膜された金属酸化物系の透明導電膜の製造方法において、次の2つの工程を含むことを特徴とする透明導電膜の製造方法。(a)透明支持体上に、金属酸化物系の透明導電性微粒子をバインダーを用いて溶剤もしくは水に分散させたものを塗布し、200°C以下で乾燥する工程(b)乾燥被膜に紫外光線ないしは赤外光線の波長領域の電磁波を照射する工程

IPC (4件)：

H01B 13/00 503 ,  B29D 9/00 ,  B32B 9/00 ,  H01B 5/14

FI (4件)：

H01B 13/00 503 B ,  B29D 9/00 ,  B32B 9/00 A ,  H01B 5/14 A