特許

J-GLOBAL ID：200903029997629578

液体供給装置及びそれを用いた基板処理装置

発明者： 山下 哲朗
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-340049
公開番号（公開出願番号）：特開2001-155990
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】 加圧方式で供給される処理液の供給圧を検出し、吐出口から清浄な処理液を基板表面へ吐出できるような装置を提供する。【解決手段】加圧源33から処理液貯留槽31に窒素ガスを供給して、吐出配管36を介してノズル23から処理液を吐出する。処理液貯留槽31には測定管41の一端が位置して他端に圧力センサ42を配設した。圧力センサ42の検出信号は制御手段5に入力され、制御手段5によりその検出信号がモニタされる。制御手段5の制御部5は測定した圧値と記憶部53に予め記憶された設定圧とを比較して、異なる場合は異常信号を出力する。そして、例えば、その異常信号により表示部51に状態を表示する。

請求項（抜粋）：

内部に液体を貯蔵する密閉された液体貯留槽と、前記液体貯留槽に気体を圧送し内部を加圧する気体供給手段と、前記気体供給手段により加圧された前記液体貯留槽内の液体を導出するように液体中に一端が配置される吐出配管と、前記液体貯留槽の前記気体供給手段により加圧される加圧空間の圧力状態を測定する圧力検出手段と、を具備したことを特徴とする液体供給装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304

FI (5件)：

G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (10件)：

2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096GA23 ,  2H096GA26 ,  2H096GA30 ,  2H096GA31 ,  5F046JA03 ,  5F046JA05 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04