特許

J-GLOBAL ID：200903030007521342

赤外線光源及びその製造方法及び赤外線ガス分析計

発明者： 野呂 誠 ,  原 仁 ,  岸 直輝
出願人/特許権者： 横河電機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-030821
公開番号（公開出願番号）：特開2001-221737
出願日： 2000年02月08日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：

【要約】【課題】 経時変化が極めて少なく、投入電力と光源強度の関係のばらつき等の固体差が小さい赤外線光源を提供すること。【解決手段】 基板にマイクロブリッジ状に形成されるフィラメントを有し、このフィラメントに通電して発熱させることにより赤外線を発光させる赤外線光源において、基板は、単結晶シリコン基板上に絶縁膜を介して単結晶シリコン層が形成されたSOI基板であり、フィラメントは、単結晶シリコン層をエッチングすることによりパターニングされ、その下部の単結晶シリコン基板をエッチングすることによりマイクロブリッジ状に形成されることを特徴とする赤外線光源。

請求項（抜粋）：

基板にマイクロブリッジ状に形成されるフィラメントを有し、このフィラメントに通電して発熱させることにより赤外線を発光させる赤外線光源において、前記基板は、単結晶シリコン基板上に絶縁膜を介して単結晶シリコン層が形成されたSOI基板であり、前記フィラメントは、前記単結晶シリコン層をエッチングすることによりパターニングされ、その下部の前記単結晶シリコン基板をエッチングすることにより前記マイクロブリッジ状に形成されることを特徴とする赤外線光源。

IPC (5件)：

G01N 21/01 ,  G01J 1/08 ,  G01N 21/35 ,  G01N 21/61 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

G01N 21/01 D ,  G01J 1/08 ,  G01N 21/35 Z ,  G01N 21/61 ,  H01L 21/306 B

Fターム (23件)：

2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC20 ,  2G059GG00 ,  2G059GG02 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ02 ,  2G059KK01 ,  2G065AA04 ,  2G065AB02 ,  2G065AB18 ,  2G065AB23 ,  2G065AB30 ,  2G065BA14 ,  2G065CA25 ,  2G065DA05 ,  2G065DA15 ,  5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043DD20 ,  5F043DD30 ,  5F043FF02 ,  5F043GG10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電気的に調節可能な熱放射源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-157971   出願人：インストルメンタリウムオイ, ヴァイサラオイ
• 赤外線光源及び赤外線光源を用いたガス濃度検出器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-101234   出願人：松下電工株式会社