特許
J-GLOBAL ID：200903030012336553
イオン注入用イオン源
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-120691
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302575
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 マクロパーティクルの発生を低減して、イオン注入による特性改善効果の低下を防止し得るイオン注入用イオン源を提供する。【構成】 真空中でアーク放電によりカソード材料1を蒸発かつイオン化してイオンビーム6を引き出すようにしてなるイオン注入用イオン源において、カソード材料の蒸発面3の近傍に設置された1個以上の空芯コイル又は電磁石7a・7bと、該空芯コイル又は電磁石に時間と共に変化する電流を流す電流制御手段9とを有し、蒸発面に平行な成分が時間と共に変化する磁場8を蒸発面に印可するものとする。特に、磁場の蒸発面に平行な成分が、周期的に極性が変化する交番磁場、あるいは一定周期で回転しながら向きが変化する回転磁場であるものとする。
請求項（抜粋）：
真空中でアーク放電によりカソード材料を蒸発かつイオン化してイオンビームを引き出すようにしてなるイオン注入用イオン源において、前記カソード材料の蒸発面の近傍に設置された1個以上の空芯コイル又は電磁石と、該空芯コイル又は電磁石に時間と共に変化する電流を流す電流制御手段とを有し、前記蒸発面に平行な成分が時間と共に変化する磁場を前記蒸発面に印可することを特徴とするイオン注入用イオン源。
IPC (5件)：
H01J 37/317
, C23C 14/32
, C23C 14/48
, H01J 27/14
, H01J 37/08
