特許

J-GLOBAL ID：200903030026109002

間隙測定装置および間隙測定方法

発明者： 三宅 栄一
出願人/特許権者： サンエー技研株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-268093
公開番号（公開出願番号）：特開2000-097646
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 露光装置において被露光基板とフォトマスクとの間隔を正確に、かつ、安価に測定することのできる間隙測定装置および間隙測定方法を提供する【解決手段】 フォトマスク102の間隙測定用マーク103の位置に対する被露光基板101に生じる投影間隔測定用マーク103aの位置をCCDカメラを用いて画像データとして取込み、演算装置により画像処理計算する。その結果、間隙測定用マーク103と投影間隔測定用マーク103aとの間隔に基づいて、間隔調整装置107によりフォトマスク102と被露光基板101との間隔を所定の値に正確に調節する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクを通して光を被露光基板に照射することにより、前記フォトマスクに描かれたパターンを前記被露光基板上に転写する露光装置において、前記フォトマスクと前記被露光基板との間隔を測定し、その測定データに基づいて前記フォトマスクと前記被露光基板との間隔を所定の値に調節するための間隙測定装置であって、前記フォトマスクには、前記被露光基板に対向する面の所定位置に間隙測定用マークを有し、前記間隔測定用マークに対して斜め上方方向から、前記被露光基板に向かって前記光を照射するための光照射手段と、前記間隔測定用マークの位置、大きさ、および、前記被露光基板に投影された投影間隔測定用マークの位置、大きさを測定するための光センサーと、前記間隔測定用マークの位置および大きさと比較して、前記間隔測定用マークに対する前記投影間隔測定用マークの変化量等に基づいて前記フォトマスクと前記被露光基板との間隔を演算測定して算出する演算手段と、前記演算手段により算出結果に基づいて前記フォトマスクと前記被露光基板とを相対的に移動させることにより、前記フォトマスクと前記被露光基板との間隔を所定の値に調節する間隔調整手段と、を備える間隙測定装置。

IPC (3件)：

G01B 11/14 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G01B 11/14 H ,  G03F 9/00 Z ,  H01L 21/30 511

Fターム (36件)：

2F065AA22 ,  2F065AA25 ,  2F065AA30 ,  2F065BB13 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD12 ,  2F065DD15 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT02 ,  2H097BA01 ,  2H097BB04 ,  2H097CA17 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA15 ,  2H097KA20 ,  2H097KA29 ,  2H097KA38 ,  2H097LA10 ,  5F046DA17 ,  5F046DB08 ,  5F046DC14 ,  5F046EA04 ,  5F046EB02 ,  5F046EC03 ,  5F046FA05 ,  5F046FC04