電気光学装置の製造方法及び電気光学装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138906
公開番号（公開出願番号）：特開平11-326951
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】ステッパーを用いて大型且つ高詳細のドライバ内蔵型のアクティブマトリクス駆動方式の液晶パネル等の電気光学装置を製造する。【解決手段】投影露光工程では、フォトレジストが塗布された領域を複数分割してなる所定ブロック領域毎に、複数のドライバ回路セルが画素ピッチよりも小さいピッチを持つように所定パターンのマスクを介して縮小又は等倍の投影露光する。一のブロック領域を露光した後に他のブロック領域を露光すべく基板を順次移動させる。

請求項（抜粋）：

基板上に、第1方向及び該第1方向に交わる第2方向にマトリクス状に配列されている複数の画素部と、該複数の画素部の前記第2方向の配列に対応して前記画素部の周囲に夫々設けられており前記複数の画素部を駆動するための複数の第1方向駆動回路セルとを備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記基板上にパターニングされる薄膜を形成する薄膜形成工程と、該薄膜上にフォトレジストを形成するフォトレジスト形成工程と、該フォトレジストが塗布された領域を少なくとも前記第1方向に複数分割してなる所定ブロック領域毎に、前記複数の画素部が前記第1方向に所定第1ピッチを持つように且つ前記複数の第1方向駆動回路セルが前記第1方向に前記所定第1ピッチよりも小さい所定第2ピッチを持つように所定パターンのマスクを介して露光用光源により投影露光する投影露光工程と、該投影露光工程により一のブロック領域を露光した後に他のブロック領域を露光すべく前記基板を前記露光用光源に対して相対的に順次移動させる移動工程と、該露光されたフォトレジストを用いて前記薄膜をパターニングすることにより前記複数の画素部及び前記複数の第1方向駆動回路セルを夫々構成する複数の素子を少なくとも部分的に形成する素子形成工程とを含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1345

FI (2件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1345

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-223926
特開平4-283728
特開昭64-084297

全件表示

前のページに戻る