特許
J-GLOBAL ID：200903030046890444
貴金属めっきの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-124914
公開番号（公開出願番号）：特開平6-316773
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】耐食性、光沢性(外観)に優れ、均一な貴金属めっき層を安定に形成することができる貴金属めっきの製造方法を提供すること。【構成】基材上に、ニッケル-リン合金めっきを施す工程と、その上層部に光沢ニッケルめっきを施す工程と、その上層部に貴金属めっきを施す工程と、その上層部にクロメート皮膜を形成する工程とよりなる貴金属めっきの製造方法。【効果】基材上に、ニッケル-リン合金めっき層を設けることにより、基材との電位差を緩和し、基材の腐食を防止する。また最表面層にクロメート皮膜を設けることにより貴金属めっき層のピンホールを埋め、光沢ニッケルめっき層の腐食を防止する。これら2つの作用により高耐食性であり、レベリング作用の高い光沢ニッケルめっきを使用することにより光沢性に優れた貴金属めっきが得られるものである。
請求項（抜粋）：
基材上に、ニッケル-リン合金めっきを施す工程と、その上層部に光沢ニッケルめっきを施す工程と、その上層部に貴金属めっきを施す工程と、その上層部にクロメート皮膜を形成する工程とよりなる貴金属めっきの製造方法。
IPC (4件)：
C23C 28/00
, C23C 18/52
, C25D 5/14
, C25D 11/38 307
