特許
J-GLOBAL ID：200903030048832395
積層磁芯の製造方法及び積層磁芯
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
窪田 法明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-334315
公開番号（公開出願番号）：特開平5-198451
出願日： 1991年11月22日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：
【要約】【目的】 耐摩耗性及び磁気特性が良好でしかも機械的精度の高い積層磁芯を低コストで製造する方法と、そのような積層磁芯を提供すること。【構成】 同一の金型内で薄板コアの打ち抜き、積層及びレーザー溶接を行なわせて複数枚の薄板コアからなる積層体を形成する積層体形成工程と、コロイダルシリカまたは水ガラスを含有し、更にアルミナ粉末を含有する含浸液にこの積層体を浸漬し、超音波振動を与えながらこの積層体に含浸液を含浸させる含浸工程と、この含浸液を含浸させた積層体をアニールして積層磁芯とするアニール工程とを備えている。
請求項（抜粋）：
同一の金型内で薄板コアの打ち抜き、積層及びレーザー溶接を行なわせて複数枚の薄板コアからなる積層体を形成する積層体形成工程と、コロイダルシリカまたは水ガラスを含有し、更にアルミナ粉末を含有する含浸液にこの積層体を浸漬し、超音波振動を与えながらこの積層体に含浸液を含浸させる含浸工程と、この含浸液を含浸させた積層体をアニールして積層磁芯とするアニール工程とを備えた積層磁芯の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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