特許

J-GLOBAL ID：200903030061231929

光学材料用組成物

発明者： 内田 博 ,  田中 保二
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-248921
公開番号（公開出願番号）：特開平6-073145
出願日： 1992年08月26日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】【目的】 原料が安価であり、従来のジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)と同等の屈折率、耐候性を有し、重合時の体積収縮率が低く、硬化時の歪が入りにくいばかりでなく、耐衝撃性の優れた透明な光学材料用組成物を開発する。【構成】 線状のまたは枝分かれしたアルキレングリコールのポリアリルカーボナート(構造-1)と、末端にアリルエステル基を有し、内部がシクロヘキサンおよび/またはシクロヘキセン骨格を有するジカルボン酸と多価飽和アルコールから誘導されたアリルエステルオリゴマー(構造-2)と、必要に応じてシクロヘキサンジカルボン酸ジアリルモノマー類から成る光学材料用組成物により目的を達成できる。

請求項（抜粋）：

下記構造-1で表される線状のまたは枝分かれしたアルキレングリコールのポリアリルカーボナート 5〜80重量%と、 (CH2 =CHCH2 -OCOO)x -Y -OCOO-CH2CH =CH2 構造-1(ただし、xは1以上10以下の整数であり、Yはx+1個の水酸基を有する炭素数2〜12のポリオールから誘導された有機残基を表す。) 末端にアリルエステル基がついていて、下記構造-2で表される繰り返し単位を有するオリゴマー 20〜70重量%と、 CH2 =CHCH2 -O -(COACOO)x -Z -O -COACOO-CH2CH =CH2 構造-2(ただし、Aは構造式-1〜6で表される有機残基(化1)であり、xは1以上10以下の整数であり、Zはx+1個の水酸基を有する炭素数2〜30のポリオールから誘導された有機残基を表す。) 1,2-、1,3-、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジアリル、メチル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジアリル、エンディック酸ジアリル、[2,2,1]ビシクロヘプタン-1,2-ジカルボン酸ジアリルから選択される少なくとも1種のモノマー 0〜50重量%とから本質的になることを特徴とする光学材料用組成物。【化1】

IPC (2件)：

C08F299/02 MRR ,  G02B 1/04