特許

J-GLOBAL ID：200903030071218637

ホトマスクとその製造方法及び検査方法、並びに透明基板のドライエッチング方法

発明者： 星野 栄一 ,  小野寺 正則 ,  石渡 直行 ,  土井 一正 ,  直江 光史
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-059183
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130651
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】 位相シフトマスクに関連した製造方法、検査方法に関し、ホトマスクの透過率の向上とエッチング精度の向上を図る。【構成】 透明基板1の少なくとも光透過部分の表面が多孔質化したドライエッチング面3からなるホトマスク。透明基板1の表面をプラズマ中においてドライエッチングして、多孔質化したドライエッチング面3とする。位相シフトマスク4のメインパターン5及びシフターパターン6の表面を何れも多孔質化したドライエッチング面3とする。透明基板1の背面に光ファイバ9を設け、光源10から透明基板1を透過して光ファイバ9に入射する透過光11の光量を測定し、透明基板1のエッチング量が所要の深さになった時にドライエッチングを停止する。300nm以下の波長の光13を用い、透過率を測定してパターン6の表面の深さの均一性を検査する。

請求項（抜粋）：

透明基板(1) の少なくとも光透過部分の表面が多孔質化したドライエッチング面(3) からなることを特徴とするホトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 301 V ,  H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-103200
  
• 特開昭63-010162