特許
J-GLOBAL ID：200903030082876237
ペリクルフレーム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-094924
公開番号（公開出願番号）：特開平11-295880
出願日： 1998年04月07日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】半導体装置を製造するフォトリソ工程に使用するフォトマスクに貼付するペリクルのペリクルフレームに関する。フォトマスクに脱着が容易なペリクルフレームを提供する。【解決手段】フォトマスク11とペリクル12は、フォトマスク側ペリクルフレーム13とペリクル側ペリクルフレーム14を接続することで、フォトマスク11へのペリクル12の装着を完了するが、このフォトマスク側ペリクルフレーム13並びにペリクル側ペリクルフレーム14には、それぞれ磁石15、16が備えられており、各ペリクルフレーム13、14の接着あるいは剥離が容易にできるようになっている。【効果】フォトマスクのペリクルの脱着を容易にする。
請求項（抜粋）：
フォトマスクとの脱着を容易とすることを特徴とするペリクルフレーム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 K
, H01L 21/30 503 E
