特許

J-GLOBAL ID：200903030086741174

電子ビーム描画方法および描画装置およびこれを用いた半導体集積回路装置

発明者： 太田 洋也 ,  早田 康成 ,  染田 恭宏 ,  斉藤 徳郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045813
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246145
出願日： 1996年03月04日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】ブランキング偏向器がレンズ磁場中に存在し、レンズ磁場による回転作用でブランキング偏向器の偏向方向と電子ビームを遮断する絞り上でのビームの移動方向が異なる場合でも、高精度に描画を行うことを目的とする。【解決手段】ブランキング偏向器がレンズ磁場中に存在すると、レンズ磁場による回転作用でブランキング偏向器の偏向方向と電子ビーム2を遮断するブランキング絞り5上でのビームの移動方向が異なる。このレンズ磁場に起因する上ブランキング偏向器4と下ブランキング偏向器6の間で生ずる電子ビームの回転作用を、上下のブランキング偏向器を角度をつけて配置することによって打ち消し、像を動かさずにブランキング偏向を行う。【効果】ブランキング偏向器や成形偏向器を上下に分割して角度を付けて配置し像の移動をなくすることにより、高精度に微細なパターンを形成することができる。

請求項（抜粋）：

電子ビームを放射する電子源と1つ以上の電磁レンズと前記電子ビームを偏向する上下2つの偏向器と前記電子ビームを遮断する絞りと具備して行う電子ビーム描画方法において、前記2つの偏向器の中間に前記電子ビームを遮断する絞りを配置し前記2つの偏向器を特定の角度をつけて配置し前記2つの偏向器の偏向方向を変えることを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01J 37/063 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 B ,  H01J 37/063 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B