特許

J-GLOBAL ID：200903030087897836

流体の流量制御装置、及び半導体装置の製造方法

発明者： 古賀 智宏
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-012318
公開番号（公開出願番号）：特開平10-207554
出願日： 1997年01月27日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 安定した流体供給を短時間で確実に制御して達成でき、かつ、構成的にも簡明で、コスト面でも有利な、流体の流量制御装置、及びこれを利用した半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】 ?@ガス等の流体が流入する入り口側の圧力の変動を圧力制御機構1のセンサー等で検知し、これを信号等にして中央制御機構4等に送って、これに基づいて制御を行う流体の流量制御装置。?A上記?@で成膜用ガス等の流体を制御する工程を有する半導体装置の製造方法。

請求項（抜粋）：

流体が流入する入り口側の圧力の変動を検知し、検知結果に基づいて制御を行うことを特徴とする流体の流量制御装置。

IPC (4件)：

G05D 7/06 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

G05D 7/06 Z ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B