特許
J-GLOBAL ID：200903030092974059
分子線発生装置及び薄膜原料の供給方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-099292
公開番号（公開出願番号）：特開平5-294786
出願日： 1992年04月20日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】【目的】るつぼ内部を独立に排気する機能と真空容器外部からの薄膜原料の供給機能を持つ分子線発生装置を提供する。【構成】るつぼ11を密閉板9と開閉機構12で密閉し、一端が密閉板9に固定され、真空バルブ17を介して真空ポンプ18に接続された排気管10と、同様に真空バルブ24を介して粉末状の薄膜原料14を収納した薄膜原料容器25に接続された原料輸送管26を備え、るつぼ11の内部を独立して排気しまたは高純度の不活性ガスを導入し薄膜原料14を輸送しるつぼ11に充填する。【効果】真空容器の汚染を防止し、薄膜原料の過剰な蒸発を抑制しながらるつぼのベーキングを行うことができ、薄膜原料を充填する作業とそれに伴うベーキング時間を大幅に短縮することができる。
請求項（抜粋）：
分子線エピタキシー装置に用いられる分子線発生装置に於いて、るつぼの内部空間と前記分子線エピタキシー装置の真空容器内の成膜処理空間とを分離、及び再開放するための前記るつぼ先端の分子線噴出口を密閉する密閉板と、前記密閉板に開閉動作を与える開閉機構と、前記密閉板に固定され前記るつぼ内部に向かう開放部を有し、かつ前記真空容器外へ延長され、真空バルブを介して真空ポンプに接続された排気管を備えることを特徴とする分子線発生装置。
IPC (3件)：
C30B 23/08
, H01L 21/203
, H01L 21/268
