ホウ素選択吸着樹脂及びホウ素の除去方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：内山充 (外1名) , 内山充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-323826
公開番号（公開出願番号）：特開2000-140631
出願日： 1998年11月13日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】水中のきわめて微量のホウ素を確実に捕捉して除去することができ、半導体製造プロセスに用いる超純水からの超微量のホウ素の除去や、産業排水や環境水からの微量のホウ素の除去に利用することができるホウ素選択吸着樹脂及びホウ素の除去方法を提供する。【解決手段】2個以上のフェノール性ヒドロキシル基と陰イオン性交換サイトを有する化合物を担持させた陰イオン交換樹脂からなることを特徴とするホウ素選択吸着樹脂、ホウ素を含有する水溶液を、該ホウ素選択吸着樹脂に接触させることを特徴とするホウ素の除去方法、及び、ホウ素を含有する水溶液に、2個以上のフェノール性ヒドロキシル基と陰イオン性交換サイトを有する化合物を添加したのち、陰イオン交換樹脂に接触させることを特徴とするホウ素の除去方法。

請求項（抜粋）：

2個以上のフェノール性ヒドロキシル基と陰イオン性交換サイトを有する化合物を担持させた陰イオン交換樹脂からなることを特徴とするホウ素選択吸着樹脂。

IPC (5件)：

B01J 20/26 , B01J 41/04 , B01J 41/12 , C02F 1/28 , C02F 1/42

FI (5件)：

B01J 20/26 C , B01J 41/04 G , B01J 41/12 Z , C02F 1/28 A , C02F 1/42 E

Fターム (27件)：

4D024AA04 , 4D024AB14 , 4D024BA17 , 4D024BB07 , 4D024BC01 , 4D024BC04 , 4D025AA04 , 4D025AA09 , 4D025AB05 , 4D025AB33 , 4D025BA14 , 4D025BA16 , 4D025BA17 , 4D025BA22 , 4D025BB02 , 4D025CA03 , 4G066AB03B , 4G066AB06B , 4G066AB15B , 4G066AC33B , 4G066AC33C , 4G066AC37B , 4G066CA21 , 4G066CA22 , 4G066DA07 , 4G066DA08 , 4G066FA11

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭48-021358
特開昭58-055542
特開平1-153509

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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