特許
J-GLOBAL ID:200903030098071360
反射防止構造体及びその製造方法並びに光学部材の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-208624
公開番号(公開出願番号):特開2008-233850
出願日: 2007年08月09日
公開日(公表日): 2008年10月02日
要約:
【課題】製造が容易であり、無反射に近い反射防止効果を発揮することができ、石英ガラス等の融点が高い部材に対しても転写により微細構造を付与することもできる反射防止構造体等を提供する。【解決手段】ガラス状炭素の基材からなり、該基材の表面に、先端に向けて縮径する形状を有する微細な突起群により反射防止構造が形成されていることを特徴とする反射防止構造体。前記微細な突起は、好ましくはそれぞれ200nm〜3000nmの平均高さと、50nm〜300nmの平均最大径を有し、50nm〜300nmの平均ピッチで形成されている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
ガラス状炭素の基材からなり、該基材の表面に、先端に向けて縮径する形状を有する微細な突起群により反射防止構造が形成されていることを特徴とする反射防止構造体。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B1/10 A
, G09F9/00 313
Fターム (13件):
2K009AA01
, 2K009AA12
, 2K009CC01
, 2K009DD07
, 2K009DD15
, 2K009DD17
, 5G435AA01
, 5G435AA17
, 5G435DD12
, 5G435HH03
, 5G435KK07
, 5G435LL07
, 5G435LL08
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (2件)
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表面微細構造体とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-303133
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
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表面処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-088524
出願人:科学技術振興事業団, 高原浩滋
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