特許

J-GLOBAL ID：200903030106102440

ポジ型レジスト組成物

発明者： 藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-279190
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117677
出願日： 2002年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】現像欠陥の発生を著しく低減し、優れた矩形のプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)側鎖に脂環式炭化水素を有する特定の部分構造を有する繰り返し単位又は主鎖に脂環式炭化水素を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)長鎖アルキル基を有する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(pI)〜一般式(pVI)で示される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位及び下記一般式(II)で示される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)下記一般式(1)〜(4)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F7/039 ,  C08F20/18 ,  C08F32/08 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/18 ,  C08F32/08 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (27件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA04P ,  4J100BA15P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100CA04 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38