特許
J-GLOBAL ID:200903030116675880

錫電気メッキ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 潮谷 奈津夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-299133
公開番号(公開出願番号):特開平6-128790
出願日: 1992年10月13日
公開日(公表日): 1994年05月10日
要約:
【要約】【目的】 高効率で高電流密度の操業が可能で、しかも均一で緻密な錫の電着核が得られ、スラッジの生成を抑制することができる錫電気メッキ方法を提供する。【構成】 有機酸および水酸化フェニルを含有する錫電気メッキ液を使用し、錫電気メッキ液中を移動する金属板に、電気メッキ中に、25kHz から55kHz の範囲内の周波数を有する超音波を錫電気メッキ液中で照射する。
請求項(抜粋):
有機酸を含有する錫電気メッキ液を使用し、前記錫電気メッキ液中を移動する金属板に電気メッキを施して前記金属板の少なくとも1つの表面上に錫メッキ層を形成する錫電気メッキ方法において、錫電気メッキ液として前記有機酸および水酸化フェニル化合物を含有する錫電気メッキ液を使用し、電気メッキ中に、前記金属板に超音波を前記錫電気メッキ液中で照射することを特徴とする錫電気メッキ方法。
IPC (2件):
C25D 3/32 ,  C25D 5/20

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