特許
J-GLOBAL ID：200903030124957208
転写装置および転写方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-055096
公開番号（公開出願番号）：特開2006-245071
出願日： 2005年02月28日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 転写されたパターンの破損を防止しつつ高速で離型を行うことができるようにした転写装置を提供する。 【解決手段】 転写装置は、パターンが形成されたモールド101を被転写物に接触させることにより、該被転写物にパターンを転写する。該装置には、被転写物から該モールドを離脱させるための変形をモールドに生じさせる変形手段201が設けられている。また、光硬化樹脂におけるパターンの転写領域外の非転写領域に、該転写領域とは異なる光照射強度を与える光学手段501を有してもよい。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたモールドを被転写物に接触させることにより、該被転写物に前記パターンを転写する転写装置であって、
前記被転写物から該モールドを離脱させるための変形を前記モールドに生じさせる変形手段を有することを特徴とする転写装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F046AA25
, 5F046AA28
, 5F046DA30
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (13件)
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