特許

J-GLOBAL ID：200903030126452308

光学装置、これを用いた光加工機及びその光ビーム照射制御方法

発明者： 堰澤 紀之 ,  桟敷 一明 ,  庭月野 義行 ,  石間伏 広信
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所
代理人 (1件)： 橋爪 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-312813
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133320
出願日： 1997年10月29日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：

【要約】【課題】 光ビームの利用効率を高められる光学装置、これを用いた光加工機及びその光ビーム照射制御方法を提供する。【解決手段】 光ビームを透過する所定のパターン4aを光軸上に有するマスク4と、このマスク4の前後位置に、かつ、光軸を中心に回転可能に設けられると共に、前記光ビームの像をこの回転した角度に応じて回転させるイメージローテータ2とを用いている。そして、光源からの光ビームの利用効率が高くなるようにマスク4を設置又は回転し、パターン4aを透過した像の方向をイメージローテータ2によって回転させてこの像をワーク7に照射する。あるいは、パターン4aの像がワーク7の所定照射位置で所定方向を向くようにマスク4を設置又は回転し、このマスク4のマスク方向C1 に応じて光源からの光ビームの利用効率が高くなるように光ビームをイメージローテータ2によって回転させてパターン4aに照射し、この像をワーク7に照射してもよい。

請求項（抜粋）：

光源からの光ビームによる像を所定の照射位置に形成する光学装置において、光ビームを透過する所定のパターン(4a)を光軸上に有するマスク(4) と、前記光軸を中心に回転可能に設けられると共に、前記マスク(4) のパターン(4a)を通過した光ビームの像をこの回転した角度に応じて回転させるイメージローテータ(2) とを備えたことを特徴とする光学装置。

IPC (6件)：

G02B 26/08 ,  B23K 26/00 ,  H01L 21/268 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/101

FI (6件)：

G02B 26/08 D ,  B23K 26/00 B ,  H01L 21/268 J ,  H01S 3/101 ,  H01L 21/302 Z ,  H01L 21/30 502 Z