特許
J-GLOBAL ID：200903030126627302
投射リソグラフィーフォトマスクブランク、プレフォームおよび製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-605857
公開番号（公開出願番号）：特表2002-539504
出願日： 2000年02月11日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：
【要約】本発明は、リソグラフィーフォトマスクブランクの製造方法を含む。本発明はまた、リソグラフィーフォトマスクブランクおよびリソグラフィーフォトマスクを製造するためのプレフォームも含む。リソグラフィーフォトマスクブランクの製造方法は、スート堆積表面を提供し、SiO2スート粒子を製造し、該SiO2スート粒子を該スート堆積表面に向かって発射する各工程を含む。この方法は、前記堆積表面上に前記SiO2スート粒子の層を連続的に堆積させて、該SiO2スート粒子の連続層からなる凝集性SiO2多孔質ガラスプレフォーム体を形成し、該凝集性SiO2ガラスプレフォーム体を脱水して、該プレフォーム体からOHを除去する各工程を含む。このSiO2は、フッ素含有化合物に露出され、それと反応せしめられ、ストリエーション平行層を有する非多孔質オキシフッ化ケイ素ガラス体に固結される。前記方法はさらに、この固結されたオキシフッ化ケイ素ガラス体を、平坦表面を有するフォトマスクブランクに形成する工程を含み、前記ストリエーション層の方向は、フォトマスクブランク平坦表面に対して平行である。
請求項（抜粋）：
リソグラフィーフォトマスクブランクを製造する方法であって、 スート堆積表面を提供し、 複数のSiO2スート粒子を生成し、該SiO2スート粒子を前記スート堆積表面に向けて発射し、 前記堆積表面上に前記SiO2スート粒子の層を連続的に堆積させて、複数の連続SiO2スート粒子層からなる凝集性SiO2多孔質ガラスプレフォーム体を形成し、 該凝集性SiO2多孔質ガラスプレフォーム体を脱水して、該凝集性SiO2多孔質ガラスプレフォーム体からOHを除去し、 そのSiO2をフッ素含有雰囲気に露出し、前記凝集性SiO2多孔質ガラスプレフォーム体を、複数のストリエーション平行層を有するオキシフッ化ケイ素ガラス体に固結させ、 該固結されたオキシフッ化ケイ素ガラス体を、前記ストリエーション平行層に対して平行な平坦表面を有するフォトマスクブランクに形成する、各工程を含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
G03F 1/14
, C03B 20/00
, G03F 1/08
, G03F 7/20 521
G03F 1/14 B
, C03B 20/00 G
, G03F 1/08 Z
, G03F 7/20 521
2H095BA07
, 2H095BC27
, 4G014AH15
, 4G014AH21
, 4G014AH23
