特許
J-GLOBAL ID:200903030129492378

プラズマエッチング方法およびプラズマエッチング装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-008935
公開番号(公開出願番号):特開平8-203868
出願日: 1995年01月24日
公開日(公表日): 1996年08月09日
要約:
【要約】【目的】 エッチングガスの消費量を削減し、被エッチング層のパターンの制御性やエッチング選択比に優れたプラズマエッチング方法およびプラズマエッチング装置を提供する。【構成】 排気経路8中のエッチング排気ガスを、フィードバック経路15a、15bを経由してエッチングガス導入経路4にフィードバックする。一方のフィードバック経路15aには、反応生成物除去手段14を設ける。【効果】 有効に使用されず廃棄されていたエッチング排気ガスが有効利用されるとともに、被エッチング基板上への堆積物の量を他のエッチングパラメータとは独立して制御可能となる。
請求項(抜粋):
エッチング排気ガスの少なくとも一部を、エッチングガス導入経路へフィードバックしつつ、被エッチング層をパターニングすることを特徴とする、プラズマエッチング方法。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • ガス回収循環装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-356146   出願人:株式会社新潟鉄工所
  • 特開平4-061332

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