特許
J-GLOBAL ID:200903030138247556
光学素子及びその成形方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-146481
公開番号(公開出願番号):特開2002-338262
出願日: 2001年05月16日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 高屈折率鉛フリーSFガラスのように、高濃度のTiO2やNb2O5を含有する活性に富む、ガラスに適応できる離型膜を提供する。【解決手段】 ガラス表面の照射処理を行った後、CH膜をコートする。このようにして得られたガラスは、成形時に融着を起こさず、ワレも発生しない。これは、照射によってガラス表面にO=Si-CHの強力な膜が形成され、上述の活性なガラスでもCH本来の離型性が得られるためと考えられる。
請求項(抜粋):
ガラスよりなる光学素子成形用素材を成形用型内に収容して加熱下でプレス成形することにより光学素子を製造する方法において、成形素材の表面を照射処理後に、炭化水素膜を被覆した光学素子成形素材を成形によりプレス成形してなる、ガラス光学素子及びその成形方法。
IPC (4件):
C03B 11/00
, C03B 40/02
, G02B 3/00
, G02B 3/02
FI (5件):
C03B 11/00 E
, C03B 11/00 A
, C03B 40/02
, G02B 3/00 Z
, G02B 3/02
Fターム (1件):
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