特許

J-GLOBAL ID：200903030145837644

光ディスク基板

発明者： 中西 幹育
出願人/特許権者： 鈴木総業株式会社
代理人 (1件)： 吉田 芳春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-340858
公開番号（公開出願番号）：特開2001-155381
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】 合成樹脂製基板からの放出ガスを遮蔽できると共に、表面を硬質化して傷がつき難くできる、表面平滑性、表面粗度の優れた被膜を、合成樹脂製基板を損なうことなく、簡便な操作で設けることができて、製造コストの低減された優れた表面平滑性、表面粗度を有する光ディスク基板を提供すること。【解決手段】 光ディスク基板の表面に、(a)オルガノポリシロキサンを主剤とする被膜形成性組成物、(b)低分子量のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂から調製されたプレポリマーを成分とする被膜形成性組成物から選ばれた一定の被膜形成性組成物を、超音波の照射下に前記被膜形成性組成物中に前記基板を浸漬する方法によって塗布し、その塗膜を硬化させた被膜を設ける。

請求項（抜粋）：

基板の表面に、下記(a)〜(b)の被膜形成性組成物から選ばれた被膜形成性組成物を、超音波の照射下に前記被膜形成性組成物中に前記基板を浸漬する方法によって塗布し、その塗膜を硬化させた被膜が設けられていることを特徴とする光ディスク基板。(a)オルガノポリシロキサンを主剤とし、それに架橋剤として官能性側鎖を有するオルガノシロキサンおよび硬化触媒が配合された被膜形成性組成物。(b)金属酸化物粉末の存在下に低分子量のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を触媒を用いて反応させ、調製されたプレポリマーからなる被膜形成性組成物。

IPC (3件)：

G11B 7/24 526 ,  G11B 7/24 ,  G11B 11/105 521

FI (3件)：

G11B 7/24 526 L ,  G11B 7/24 526 A ,  G11B 11/105 521 A

Fターム (9件)：

5D029KA01 ,  5D029KA11 ,  5D029KB06 ,  5D029KC09 ,  5D029KC17 ,  5D075EE03 ,  5D075FG15 ,  5D075FG17 ,  5D075GG16