特許
J-GLOBAL ID:200903030146569520
マーク検出方法、これを用いた位置合わせ方法、露光方法及び装置、ならびにデバイス生産方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
丸島 儀一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-260092
公開番号(公開出願番号):特開平9-102452
出願日: 1995年10月06日
公開日(公表日): 1997年04月15日
要約:
【要約】【課題】 電子ビームを用いてウエハ上のアライメントマークを位置を検出するにあたって、プロセスによる影響を受けずに下地のアライメントマーク位置を適切に検出することができる方法を提供する。【解決手段】 エハの層構造(構成や材質)に応じて、電子ビームの加速電圧を適切に設定してウエハ上のアライメントマークの位置を検出する。電子ビームの照射によってマークから発生するマークの材質特有の蛍光X線を検出してマークを判別する。例えばX線縮小露光のアライメント検出に有効である。
請求項(抜粋):
電子ビームを用いて基板上のマークを検出する方法において、基板の層構造に応じて電子ビームの加速電圧を設定することを特徴とするマーク検出方法。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G01B 15/00
, G03F 9/00
, H01L 21/68
FI (4件):
H01L 21/30 531 J
, G01B 15/00 B
, G03F 9/00 H
, H01L 21/68 F
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開昭62-209839
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特開昭58-004929
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特開昭57-085232
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特開平2-015545
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審査官引用 (4件)
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特開昭62-209839
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特開昭58-004929
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特開昭57-085232
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