特許
J-GLOBAL ID：200903030147958457
マイクロマシン(MEMS)装置用構造体の製作方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 宍戸 嘉一
, 村社 厚夫
, 弟子丸 健
, 井野 砂里
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-568475
公開番号（公開出願番号）：特表2005-520694
出願日： 2002年04月29日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
本発明は、MEMS装置の製造に使用することができるマイクロ製作方法を提供する。本発明による方法は、基層(100)の上に1つ層又は積み重ね層を堆積させる工程を有する。1つの層又は積み重ね層の一番上の層は犠牲層(102)である。本発明による方法は、更に、1つ層又は積み重ね層にパターンを形成し、基層を露出させる少なくとも1つの貫通孔を1つ層又は積み重ね層に形成する工程と、1つの層又は積み重ね層の上に光感知層(106)を堆積させる工程と、少なくとも1つの貫通孔から光を通し、光感知層を露出させる工程とを有している。
請求項（抜粋）：
マイクロマシン装置を製作するためのマイクロ製作方法であって、
基材の上に1つの層又は積み重ね層を堆積させる工程と、
前記1つの層又は前記積み重ね層にパターンを形成する工程と、
前記1つの層又は前記積み重ね層の上に中間層を堆積させる工程と、
前記1つの層又は前記積み重ね層をフォトマスクとして使用して、前記中間層にパターンを形成する工程と、を有することを特徴とするマイクロ製作方法。
IPC (3件)：
B81C1/00
, G02B26/08
, G03F7/20
B81C1/00
, G02B26/08 A
, G03F7/20 501
2H041AA03
, 2H041AB16
, 2H041AC06
, 2H097FA02
, 2H097FA10
, 2H097LA15
, 2H097LA20
