特許
J-GLOBAL ID：200903030149640004
光減衰性光導波材料及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074277
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279957
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】安価でかつ簡便にあらゆる光減衰率を有する光減衰性光導波部品に使用でき、軸ずれが発生しない光減衰性光導波材料、その製造方法及びそれを用いた光減衰性光導波部品を提供する。【解決手段】フェムト秒レーザ光4を光ファイバ等の光導波材料1の光導波部分1aに照射して構造変化部1bを形成することにより、光減衰性光導波材料を製造する。この構造変化部1bは、光を散乱、反射、あるいは吸収することによって光を減衰させる。本発明の光減衰性光導波材料の光減衰率は、構造変化の態様もしくは構造変化部の数によって容易に調節することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光導波部分にフェムト秒レーザ光によって誘起されてなる構造変化部を有する光減衰性光導波材料。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
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