特許
J-GLOBAL ID:200903030155663199

液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-260381
公開番号(公開出願番号):特開平8-122820
出願日: 1994年10月25日
公開日(公表日): 1996年05月17日
要約:
【要約】【目的】 異なるフォトマスクの寸法差による表示の品質が低下を抑制し、液晶表示装置の品質向上を図る。【構成】 ゲート電極の薄膜層の露光結合位置が、ガラス基板1上における破線a-1,b-1で示す位置になるようにパターニングし、ドレイン電極の薄膜層の露光結合位置が、前記ゲート電極の薄膜層の露光結合位置とは異なる破線a-3,b-3で示す露光結合位置とは異なる位置になるようにパターニングし、さらに、その他の薄膜層の露光結合位置が、前記ゲート電極およびドレイン電極の薄膜層の露光結合位置とは異なる破線a-2,b-2で示す露光結合位置になるようにパターニングする。
請求項(抜粋):
フォトリソグラフィー工程によって、基板上に複数の薄膜層を積層させて液晶表示基板を製造する際、前記基板上における露光エリアを複数のエリアに分け、この複数のエリアに対応した複数のフォトマスクを用い、露光器により前記複数のフォトマスクのパターンを互いに結合させるように基板上の薄膜層に露光ショットする工程を有する液晶表示装置の製造方法において、前記積層させた複数の薄膜層のうち、少なくとも1つの薄膜層を構成する前記複数のフォトマスクに対応した薄膜層ごとの結合部を、他の薄膜層における結合部とは異なる位置に形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件):
G02F 1/136 500 ,  H01L 21/027 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (2件):
H01L 21/30 514 C ,  H01L 29/78 612 D

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