特許

J-GLOBAL ID：200903030159939490

低刺激洗浄料

発明者： 佐藤 範雄 ,  笠原 智子
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-242234
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053458
出願日： 2000年08月10日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【課題】 アニオン性界面活性剤を含有する洗浄料において、洗浄力を損なわずに、刺激発現を抑制する手段を提供する。【解決手段】 アニオン性界面活性剤を含有する洗浄料に、ポリオキシエチレン脂肪酸グリセリルを含有させる。

請求項（抜粋）：

ポリオキシエチレン脂肪酸グリセリルからなる、アニオン界面活性剤の刺激低減剤。

IPC (6件)：

A61K 7/50 ,  C11D 1/02 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/12 ,  C11D 1/72 ,  C11D 1/83

FI (6件)：

A61K 7/50 ,  C11D 1/02 ,  C11D 1/04 ,  C11D 1/12 ,  C11D 1/72 ,  C11D 1/83

Fターム (24件)：

4C083AB032 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AC421 ,  4C083AC422 ,  4C083AC582 ,  4C083AD532 ,  4C083BB05 ,  4C083CC23 ,  4C083DD32 ,  4C083DD33 ,  4C083EE12 ,  4H003AB03 ,  4H003AB44 ,  4H003AC12 ,  4H003DA02 ,  4H003EA21 ,  4H003EB04 ,  4H003EB05 ,  4H003EB12 ,  4H003EB41 ,  4H003ED02 ,  4H003FA02