特許

J-GLOBAL ID：200903030161168000

洗浄装置

発明者： 元島 秀人
出願人/特許権者： 鹿児島日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-003337
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190527
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 ガラス基板の洗浄を実施する場合に、絶縁膜下の金属の腐食消失を防止する。【構成】 保持ステージ4上の基板にコンタクト板1を接触させることで、外部直流電源と接続し、絶縁膜の電荷を調整することができ、下地金属の腐食消失を防止する。

請求項（抜粋）：

基板を回転させながら高圧純水等を噴射してパーティクル等の除去,洗浄するスピン洗浄装置において、基板を保持する保持ステージと、基板表面に外部直流電源を接続するためのコンタクト板とを有することを特徴とする洗浄装置。