特許

J-GLOBAL ID：200903030163344698

高分子ゲル及びその製造方法、並びに高分子ゲルを用いた高分子ゲル組成物、光学素子、樹脂組成物及び光学フィルム

発明者： 石井 理恵 ,  三上 正人 ,  明石 量磁郎
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-195175
公開番号（公開出願番号）：特開2005-029665
出願日： 2003年07月10日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】体積変化の繰り返し特性に優れる高分子ゲル及びそれを用いた光学素子の提供。【解決手段】互いに相互作用する主鎖と側鎖とから構成されるグラフト共重合体構造を有する高分子ゲルであって、前記主鎖は、三次元架橋構造を有することを特徴とする高分子ゲル、および、一対の基板間に、高分子ゲルと液体とを有する高分子ゲル組成物が挟持されていることを特徴とする光学素子。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

互いに相互作用する主鎖と側鎖とから構成されるグラフト共重合体構造を有する高分子ゲルであって、前記主鎖は、三次元架橋構造を有することを特徴とする高分子ゲル。

IPC (3件)：

C08F265/10 ,  C08L33/02 ,  C08L51/06

FI (3件)：

C08F265/10 ,  C08L33/02 ,  C08L51/06

Fターム (15件)：

4J002BG01X ,  4J002BN05W ,  4J002FD090 ,  4J002FD200 ,  4J002GP00 ,  4J026AA42 ,  4J026AA50 ,  4J026AC23 ,  4J026AC31 ,  4J026BA24 ,  4J026DA03 ,  4J026DB12 ,  4J026GA01 ,  4J026GA06 ,  4J026GA09