酸化物カソード、及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-355521
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176375
出願日： 1999年12月15日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】スプレー方式によって形成される酸化物カソードの電子放射物質層の表面の凹凸に起因して発生するモアレを抑制し、電子放射分布の均一性を保ち、更に電子放出量を減少することなく長時間にわたる高電流動作を可能とする酸化物カソードを提供する。【解決手段】ニッケルを主成分とする金属基体3上に所定の印刷ペーストをスクリーン印刷により被着させて乾燥し、熱分解処理して電子放射物質層7を形成し、この電子放射物質層7を、アルカリ土類金属酸化物8と酸化スカンジウム10と所定径の空孔11とが混在する第1層5と、この第1層に重ねて形成され、アルカリ土類金属酸化物8と所定径の空孔11とが混在する第2層6との2層構造とする。

請求項（抜粋）：

ニッケルを主成分とする金属基体上に印刷ペーストをスクリーン印刷により被着させて乾燥し、熱分解処理して形成した電子放射物質層を有する酸化物カソードであって、該電子放射物質層が、前記金属基体に接して形成され、アルカリ土類金属酸化物と希土類酸化物と第1の平均直径を有する空孔とが所定の割合で混在する第1層と、該第1層の表面に接して形成され、アルカリ土類金属酸化物と第2の平均直径を有する空孔とが所定の割合で混在する第2層とからなることを特徴とする酸化物カソード。

IPC (4件)：

H01J 1/14 , H01J 1/20 , H01J 9/04 , H01J 29/04

FI (4件)：

H01J 1/14 A , H01J 1/20 G , H01J 9/04 D , H01J 29/04

Fターム (8件)：

5C027CC05 , 5C027CC11 , 5C027CC12 , 5C031DD04 , 5C031DD07 , 5C031DD09 , 5C031DD15 , 5C031DD19

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