特許

J-GLOBAL ID：200903030186577371

軟磁性材料膜及びその製造方法

発明者： 坂輪 盛一 ,  清水 朝幸 ,  飯塚 達也
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-211813
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066034
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 保磁力が低く軟磁性材料として良好な特性を有するNiFePからなる軟磁性材料膜とこの膜を無電解めっきによって均一に安定して製造する方法を提供する。【構成】 ニッケル及び鉄を主成分とする金属イオン、並びにPH調整剤を含む水溶液からなり、PH緩衝剤として硫酸アンモニウムを0.2 〜 0.5mol/L,前記金属イオンの錯化剤としてクエン酸塩を 0.5〜1mol/L 及び金属イオンの還元剤として次亜リン酸塩を0.005 〜0.03 mol/Lを含む無電解めっき浴によって処理することによって、Ni含有量が 70 〜 85 重量%で、Fe/P(重量比)の値が 8〜15であることを特徴するNiFePからなる軟磁性材料膜を得る。

請求項（抜粋）：

Ni、Fe及びPからなり、Niの含有量が70重量%〜85重量%で、Fe/P(重量比)の値が 8〜15であることを特徴とする軟磁性材料膜。

IPC (5件)：

H01F 10/14 ,  C23C 18/50 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/66 ,  H01F 41/26