特許

J-GLOBAL ID：200903030193216260

回転円盤放電式排ガス処理装置

発明者： 溝内 清司 ,  大西 謙之 ,  太田 智久
出願人/特許権者： 株式会社田熊総合研究所
代理人 (1件)： 杉浦 俊貴 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-165568
公開番号（公開出願番号）：特開平8-024559
出願日： 1994年07月18日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：

【要約】【目的】 揺動状態においても正常に機能しメンテナンスに手間のかからないコンパクトな排ガス処理装置を提供する。【構成】 冷却機構と浄化機構とからなる排ガス処理装置。浄化機構は、下部が海水溜21に浸るように回転軸9に一定間隔で回転円盤19を配し、その間に放電電極20を配してなる。回転軸9の回転により回転円盤19の表面に海水の被膜を形成し、回転円盤19と放電電極20との間に放電を生じさせ、排ガス成分を分解,吸収する。

請求項（抜粋）：

(a)少なくとも下部の一部が浄化液に浸りその浄化液面に略水平に配される支持軸を中心に回転する一または二以上の回転円盤、(b)この回転円盤の周囲に放電状態を形成する一または二以上の放電電極、および(c)前記浄化液が溜められるとともに、導入される排ガスと接触するように前記回転円盤および前記放電電極が収容されるチャンバーを備え、前記回転円盤の回転によりその回転円盤の表面に前記浄化液の被膜が形成されることを特徴とする回転円盤放電式排ガス処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01D 47/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/77 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74

FI (3件)：

B01D 53/34 ZAB E ,  B01D 53/34 125 Z ,  B01D 53/34 129 C