特許
J-GLOBAL ID：200903030196084640
イオンビーム応用装置用真空容器の製作方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-160069
公開番号（公開出願番号）：特開2000-348618
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 筒状容器とフランジ等の接合に、溶接後の変形が少ない方法を用い、溶接後の機械加工を無くして、工数低減、作業性を改善し、製品の信頼性向上が図れるイオンビーム応用装置用真空容器の製作方法の提供にある。【解決手段】 筒状容器2とフランジ3等の構成部品を接合前に部品別に高精度の機械加工で仕上げ、前記高精度に機械加工された構成部品の接合に、レーザ溶接を用い、筒状容器2とフランジの接合部を突合せ継手16とし、その継手部分に歪みを吸収する溝15を形成して溶接後の変形を少なくした接合を行なう。これによれば、溶接後の機械加工を行なうことなく高精度に仕上げられた真空容器の製作ができ、製品上最も重要であるイオン源の永久磁石配置溝を高精度に有し磁場を均一に保つことができ、製品の性能向上、信頼性向上を図ると共に、真空容器製作の作業性の改善及び製品コストの低減を図ることができる。
請求項（抜粋）：
筒状容器の端面にフランジを溶接したイオンビーム応用装置用真空容器の製作方法において、溶接前に前記筒状容器及びフランジ別に所定の仕上寸法で高精度に機械加工で仕上げ、該機械加工された筒状容器及びフランジの接合部を突合せ継手とし、かつ、継手部分に歪みを吸収する溝を形成し、接合をレーザ溶接で溶接することを特徴とするイオンビーム応用装置用真空容器の製作方法。
IPC (4件)：
H01J 9/26
, B23K 9/00 501
, B23K 26/00 310
, H01J 37/16
H01J 9/26 A
, B23K 9/00 501 K
, B23K 26/00 310 P
, H01J 37/16
4E068BA06
, 4E068BD01
, 4E068DA06
, 4E081YK10
, 5C012AA09
, 5C012BC03
, 5C012BC05
